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题名:
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硅技术的发展和未来 / (法)P. 希弗特，(德)E. 克瑞梅尔编著 , 屠海令等译 |
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ISBN:
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978-7-5024-4536-2 价格： CNY50.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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15,480页 图 24cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 冶金工业出版社 出版日期： 2009 |
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内容提要:
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本书涵盖了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、晶格缺陷、杂质影响等多方面的内容，并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等诸多新概念。 |
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主题词:
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硅 研究 |
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主题词:
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硅 |
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中图分类法:
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TQ127 版次： 4 |
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主要责任者:
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希弗特 编著 |
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主要责任者:
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克瑞梅尔 编著 |
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次要责任者:
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屠海令 译 |
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索书号:
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3 |